設(shè)備采用先進(jìn)的觸摸屏和PLC集中控制，裝有電腦自動(dòng)換檔真空計(jì)和三路流量控制器，一套逆變偏壓，邊裝式加熱管四支，電腦PID自動(dòng)控溫，兩個(gè)側(cè)裝式平面靶，二套中頻電源，因?yàn)椴捎孟冗M(jìn)的中頻電源，所以設(shè)備不但可以鍍制氮化鈦、碳化鈦、氮化鋯、氮化鉻及鈦、鎳、鉻、銅、金銀等等導(dǎo)電膜層，而且可以控制Si02等非導(dǎo)電膜層，其中不但鍍制膜層細(xì)膩而且鍍制速度非常快，兼有其他鍍法的優(yōu)點(diǎn)，所以是一種性能非常優(yōu)良的鍍膜設(shè)備，適用于門鎖、手表零件、合頁(yè)、五金等表面處理。

中頻設(shè)備主要機(jī)型及參數(shù):
參數(shù) 　　　　型號(hào) 700型 800型 900型 1000型
真空室尺寸 ф700×1000 ф800×1000 ф900×1000 ф1000×1000
抽氣速率 １×105Pa~3×10-3Pa≤20min
極限真空度 ≤1×10-3Pa
系統(tǒng)配套 KT-400/2X-70
2X-15 KT-400/2X-70
2X-15 KT-500/2X-70
2X-15/ZLD-300 KT-500/2X-70
2X-15/ZLD-300 工件系統(tǒng) 行星式公自轉(zhuǎn)形式（轉(zhuǎn)軸數(shù)量8軸，可自定數(shù)量）
加熱方式 邊緣安裝不銹鋼加熱管加熱
離子轟擊 直流1000V或逆變脈沖1000V高壓轟擊
充氣系統(tǒng) 流量控制器控制送入工作氣體
燈絲裝置 配備燈絲輔助鍍膜裝置
磁控靶數(shù)量 2 2 2、4 2、4 濺射電源 中頻電源1臺(tái) 中頻電源1臺(tái)或2臺(tái)
工作方式 PLC半自動(dòng)控制或PC+PLC全自動(dòng)控制方式
工作氣體 Ar N2 O2C2H2
總功率 30KW 35KW 45KW 50KW
壓縮空氣 0.4~0.8MPa
水冷系統(tǒng) 水壓/水溫：≤25℃/≥0.25MPa(用戶自備)
中頻系列離子鍍膜機(jī)是先進(jìn)的膜裝置，主要應(yīng)用于鍍制各種高質(zhì)量的光滑